半导体组件空间单位都是以微米计算，因此微尘颗粒沾附在制作半导体组件的晶圆上，便有可能影响到其上精密导线布局的样式，造成短路或断路的严重后果。所有半导体制程设备都必须安置在隔绝粉尘进入的密闭空间中，这就是半导体车间净化的来由。

一、半导体车间实景图

二、净化原理

    在净化工程中，含有杂质的液化气体通过第一吸收装置以去除其液相中的杂质，从而产生初次净化流体；使这初次净化流体通过蒸发装置以去除其中的杂质，从而产生二次净化气体；和使二次净化气体通过第二吸收装置以去除其汽相中的杂质，从而达到净化效果。

三、技术要求及功能特点

技术要求：

1. 对生产环境清洁度要求极高；

2. 选择不易产生静电吸附的材质为主；

3. 恒温恒湿的系统要求使用；

4.  所用的原材料需要符合工艺要求；

   功能特点：

5. 清洁度：半导体工艺对操作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。

6. 特殊性：所有人或事情进出尖端半导体，必须穿配套防尘服，人或事物都要经过风淋室的吹淋已将表面的灰尘清洗掉；

7. 防静电：在材质选择方面，应该选择不易产生静电吸附的材质;

8. 严谨性：所有经净化设备的空气流动方向均由上往下为主，因此，尖端半导体室内空间设计或机台摆放应避免突兀，使尘埃细菌等在洁净无尘车间内回旋停滞的机会与时间减至最低程度。

四、应用场景

    半导体车间净化装修现在已经广泛运用于制药工业、细菌学、生物学、洁净实验室等行业中，随着半导体净化装修日益地朝着高集成度发展,这就要求各元件尺寸愈来愈微细，而硅片的面积向大型化方向发展，在一定程度上促进的我国生物工程的发展。